Controlador digital MFC piezoeléctrico de alto flujo FC-D982 AERA con sellado metálico
Manufacturer: AERA
Product No.: FC-D982
Condition: En stock
Product Type: Controlador digital
Product Origin: USA
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Weight: 500g
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FC-D982 | AERA | Controlador digital de flujo másico de alto caudal de la serie FC-D980
El AERA FC-D982 es un controlador digital de flujo másico de alto caudal diseñado para el suministro de gas en equipos de fabricación de semiconductores y procesos. Pertenece a la serie FC-D980, que combina control digital, accionamiento piezoeléctrico y sellado totalmente metálico.
Con una capacidad de 30–50 slm a escala completa, el FC-D982 está destinado a aplicaciones que requieren un mayor caudal de gas. Su construcción de acero inoxidable 316L de doble VAR soporta sistemas de gas ultralimpio de alta exigencia. Los ingenieros pueden seleccionar conexiones VCR estándar de 1/4 o 3/8 de pulgada según la configuración de instalación.
El controlador también admite la operación multipropósito programable en campo. Almacena hasta ocho gases, con hasta 11 puntos de calibración por gas. Esta configuración ofrece a los ingenieros de procesos mayor flexibilidad al gestionar distintas recetas de gas.
01 | Posicionamiento del modelo: configuración de alto caudal FC-D980
| Fabricante | AERA |
| Modelo | FC-D982 |
| Familia de productos | Serie FC-D980 |
| Tipo de producto | Controlador digital de flujo másico (MFC) |
| Tecnología de control | Control digital con válvula piezoeléctrica |
| Capacidad de flujo | 30–50 slm |
| Configuración de gas | Multipropósito programable en campo |
| Diseño del sellado | Sellado totalmente metálico |
| Opciones de conexión | VCR de 1/4 o 3/8 de pulgada |
02 | Rendimiento de medición: precisión en todo el rango de operación
El FC-D982 especifica la precisión en dos regiones de flujo distintas. Los ingenieros deben utilizar la base de referencia adecuada al calcular la incertidumbre del proceso.
| Rango de flujo a escala completa | 30–50 slm |
| Precisión al 25–100 % de la escala completa | Dentro de ±1 % del valor de consigna |
| Precisión al 2–25 % de la escala completa | Dentro de ±0,25 % de la escala completa |
| Repetibilidad | Dentro de ±0,2 % de la escala completa |
| Tiempo de respuesta | Menos de 1 segundo hasta alcanzar ±2 % del valor de consigna |
| Rango de control | 2–100 % de la escala completa |
| Estabilidad del cero | Menos del 0,5 % de la escala completa durante un año |
Interpretación del rendimiento: La especificación de precisión cambia su base de referencia al 25 % de la escala completa. La región de operación superior utiliza la precisión basada en el valor de consigna. La región inferior utiliza la precisión basada en la escala completa.
Por ejemplo, una configuración de 50 slm tiene una especificación de precisión en la región inferior referenciada a una escala completa de 50 slm. Los ingenieros no deben interpretar ±0,25 % de la escala completa como ±0,25 % del flujo comandado.
03 | Gestión de gas: configuración multipropósito flexible
La arquitectura digital admite múltiples configuraciones de gas en un solo controlador.
- Almacenamiento de gas: Almacena hasta ocho configuraciones de gas.
- Datos de calibración: Admite hasta 11 puntos de calibración por gas.
- Selección de gas: Permite la configuración de gas programable en campo.
- Flexibilidad del proceso: Admite equipos que utilizan múltiples recetas de gas.
La selección de gas y los datos de calibración deben coincidir con el gas real del proceso. No asuma que una calibración de gas proporciona automáticamente una medición precisa para otro gas.
04 | Construcción en contacto con el gas: trayectoria ultralimpia para el gas
| Material en contacto con el gas | Acero inoxidable 316L de doble VAR |
| Tratamiento de la superficie | Electropulida y ultralimpia |
| Acabado superficial | 1 Ra (0,025 µm), según se especifica |
| Método de sellado | Sellado totalmente metálico |
| Opciones de conexión | VCR de 1/4 o 3/8 de pulgada |
| Tasa máxima de fuga de helio | 1 × 10⁻¹⁰ atm·cc/seg como máximo |
La construcción de doble VAR de acero inoxidable 316L y la superficie electropulida facilitan el suministro de gas limpio. El sellado metálico evita depender de sellos elastoméricos en la configuración de sellado en contacto con el gas especificada.
Antes de la instalación, verifique la compatibilidad con el gas de todos los componentes en contacto con el gas. El acero inoxidable y los sellos metálicos no garantizan la compatibilidad con todos los gases corrosivos o condiciones de proceso.
05 | Ventana de operación de presión y condiciones ambientales
| Presión diferencial de operación | 28–40 psiD (194–275 kPaD) |
| Presión máxima de operación | 70 psig (490 kPaG) |
| Presión de prueba | 140 psig (981 kPaG) |
| Temperatura de operación | 5–45 °C (41–113 °F) |
| Configuración calefactada | No; versión estándar sin calefacción |
Mantenga la presión diferencial especificada durante la operación. La presión máxima de operación y la presión de prueba describen límites diferentes. La presión de prueba no representa una condición de operación continua permitida.
06 | Control eléctrico y arquitectura de la válvula
| Valor de consigna analógico | 0–5 VCC |
| Salida analógica | 0–5 VCC |
| Interfaz digital | RS-485 |
| Conector | Conector Honda de 20 pines |
| Alimentación positiva | +15 VCC ±2 %, mínimo 120 mA |
| Alimentación negativa | −15 VCC ±2 %, mínimo 50 mA |
| Potencia máxima | 1,3 W |
| Tecnología de la válvula | Actuador piezoeléctrico |
| Configuración de la válvula | Normalmente abierta o normalmente cerrada |
La configuración de válvula especificada puede ser normalmente abierta o normalmente cerrada. Confirme la opción real de la válvula antes de conectar el controlador a un suministro de gas de proceso.
07 | Dimensiones externas e interfaz de instalación
| Altura | 142 mm |
| Ancho | 38 mm |
| Profundidad | 183,8 mm |
| Dimensión entre puertos | 183,8 mm |
| Peso | 1,8 kg (3,9 lb) |
Verifique el dibujo de contorno antes de modificar el panel de gas. Confirme la orientación de los puertos, el espacio de servicio, el tamaño de los accesorios y la posición de montaje. La opción VCR de 3/8 de pulgada puede afectar el espacio de instalación requerido.
08 | Aplicaciones en procesos de semiconductores
- CVD: Controla el suministro de gas de proceso en equipos de deposición química de vapor.
- PVD: Admite el control del flujo de gas en sistemas de deposición física de vapor.
- Grabado: Proporciona un suministro controlado de gas para procesos de grabado por plasma.
- Difusión: Admite el suministro de gas en equipos de procesamiento térmico de semiconductores.
- Implantación iónica: Proporciona control de flujo para sistemas de suministro de gas compatibles.
- Pulverización: Admite la regulación de gas en equipos de procesos de pulverización.
09 | Puesta en marcha y mantenimiento: comprobaciones prácticas
- Verifique el rango a escala completa. Confirme que la unidad instalada coincida con el requisito de flujo del proceso.
- Compruebe la selección de gas. Confirme el gas programado y los datos de calibración antes de aplicar un valor de consigna.
- Confirme la opción de la válvula. Identifique la operación normalmente abierta o normalmente cerrada a partir de la configuración de la unidad.
- Inspeccione las conexiones VCR. Haga coincidir el tamaño del accesorio y el hardware de sellado con el panel de gas.
- Compruebe las condiciones de presión. Mantenga la presión diferencial requerida durante la verificación del flujo.
- Valide las señales eléctricas. Confirme la polaridad de alimentación, la escala analógica y la comunicación RS-485.
- Verifique la estabilidad del cero. Compruebe la salida del cero bajo las condiciones especificadas por el fabricante antes de evaluar el rendimiento de bajo caudal.
Para la resolución de problemas del proceso, separe los problemas de suministro de gas de los relacionados con el controlador. Compruebe la presión de entrada, la presión de salida, la selección de gas y la escala de señal antes de ajustar el sistema de control de flujo.
10 | Cumplimiento e identificación del producto
- RoHS: Cumple según se especifica.
- Referencia SEMI: SEMI E17-91.
- Arquitectura de la serie: Familia FC-D980 digital, piezoeléctrica y con sellado metálico.
- Configuración: Versión estándar sin calefacción.
Confirme la documentación de cumplimiento aplicable y la revisión del producto antes de utilizar la unidad en un proceso regulado de calificación de equipos.
11 | Preguntas frecuentes
P1: ¿Cuál es la diferencia práctica entre una configuración de 30 slm y una de 50 slm?
El rango a escala completa seleccionado determina el intervalo de medición y control. Una unidad de 30 slm puede adaptarse a un proceso con una demanda máxima menor. Una unidad de 50 slm proporciona mayor capacidad cuando la receta requiere un caudal más alto. Compare los puntos de operación reales en lugar de seleccionar únicamente por la demanda máxima del proceso.
P2: ¿Se pueden cambiar las configuraciones de gas almacenadas durante la operación del equipo?
El controlador admite configuraciones de gas programables en campo. Sin embargo, el procedimiento seguro para cambiar los gases depende del sistema de control del equipo y de la receta del proceso. Confirme el comando de selección de gas, la secuencia de transición y los enclavamientos antes de implementar cambios durante la producción.
P3: ¿Cómo deben evaluar los ingenieros el rendimiento de bajo caudal durante las pruebas de aceptación?
Utilice un instrumento de referencia calibrado con una incertidumbre adecuada en el punto de prueba previsto. Estabilice primero la presión y la temperatura del gas. Luego, compare las lecturas con el límite de precisión basado en la escala completa aplicable por debajo del 25 % de la escala completa. Evite utilizar la fórmula de precisión del rango superior para la aceptación de bajo caudal.
P4: ¿Qué podría causar lecturas inestables después de reemplazar los accesorios del panel de gas?
Compruebe la alineación de los accesorios, las superficies de sellado VCR, las fugas de gas y el esfuerzo mecánico en los puertos del controlador. También verifique que los accesorios de reemplazo coincidan con las dimensiones de conexión originales. Una fuga o una deformación por instalación pueden afectar la estabilidad del proceso incluso cuando la interfaz eléctrica permanece correcta.
P5: ¿Cómo deben evaluar los equipos de mantenimiento la deriva del cero a largo plazo?
Registre las lecturas del cero bajo condiciones consistentes de aislamiento de gas, presión y ambiente. Compare los resultados a lo largo del tiempo con la estabilidad del cero anual especificada. Si la lectura cambia inesperadamente, inspeccione las fugas, el gas residual, la contaminación y la configuración de prueba antes de concluir que el controlador requiere recalibración.
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